钛及钛合金锭
2021年3月26日
钛靶块-钛圆靶-钛靶材规格
2021年3月23日

钛及钛合金靶材


普森能够正常供货的钛靶材主要有:

钛铝(Ti-Al)合金靶材

使用了钛铝基涂层的刀具,立马拥有高进料速度、优异的切削性能、高金属切削率。此外,使用钛铝靶材镀膜还能有效保护工具不受磨损,从而延长使用寿命。钛铝靶材与阴极还用在电子产品如手机、眼镜框或者高档手表表盘上的装饰涂层

钛铝靶材最重要的技术指标
钛/铝含量 [at%] 25/75 30/70 33/67 40/60 50/50 75/25
纯度 [%] 99.7 99.7 99.7 99.7 99.7 99.7
可靠密度 [g/cm3] 3.11 3.20 3.26 3.38 3.56 4.00
标准/细晶粒度 [µm] 100/50 100/50 100/50 100/50 100/50 100/50
导热性 [W/(m·K)] 115 102 61 30
热膨胀系数 [1/K] 21 · 10-6 18 · 10-6 16 · 10-6 13 · 10-6

无论旋转或平面电弧阴极,或者平面溅射靶材:我们提供完全满足您的应用要求的定制型靶材。欢迎来电来函咨询!

高纯钛靶

钛镍(Ti-Ni)合金靶材


普森可提供生产服务的其他合金材料溅射靶材:
  • 镍合金靶材

镍铝(Ni-Al)、镍铬(Ni-Cr)、镍铬硅(Ni-Cr-Si)、镍铁(Ni-Fe)、镍铌钛(Ni-Nb-Ti)、镍钛(Ni-Ti)、镍钒(Ni-V)

  • 锆合金靶材:

锆铝(Zr-Al)、锆铁(Zr-Fe)、锆铌(Zr-Nb)、锆镍(Zr-Ni)、锆钛(Zr-Ti)、锆钇(Zr-Y)


靶材小知识:

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量。对于同种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。