钛靶块-钛圆靶-钛靶材规格
2021年3月23日
镍丝/镍合金丝
2021年3月18日

钛及钛合金靶材


普森能够正常供货的钛靶材主要有:

高纯钛靶

纯度是高纯靶材的主要性能指标之,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。在实际应用中,对靶材的纯度要求不尽相同。

例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

根据客户的需求,普森提供个性化高纯钛靶材定制生产,欢迎来电来函咨询!

钛铝(Ti-Al)合金靶材

钛镍(Ti-Ni)合金靶材


普森可提供生产服务的其他合金材料溅射靶材:
  • 镍合金靶材

镍铝(Ni-Al)、镍铬(Ni-Cr)、镍铬硅(Ni-Cr-Si)、镍铁(Ni-Fe)、镍铌钛(Ni-Nb-Ti)、镍钛(Ni-Ti)、镍钒(Ni-V)

  • 锆合金靶材:

锆铝(Zr-Al)、锆铁(Zr-Fe)、锆铌(Zr-Nb)、锆镍(Zr-Ni)、锆钛(Zr-Ti)、锆钇(Zr-Y)


靶材小知识:

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量。对于同种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。